搜索

水
層對
半導體

半導體製造最全面的水管理解決方案

超純水、廢水再利用以及零液體排放——這些技術已在整個製造廠內整合為一個負責的系統,並得到實施。.

水決定一切
可以/不可以

如今,水是否建成成了決定性因素。對於最先進的工廠,水不再是基本設施,而是生產的必要條件,其重要性不亞於電力和土地。能夠及早解決水問題的工廠會更快地發展,且更具可靠性。.

一個負責管理水層的合夥人

大多數晶片廠都依靠多家供應商,每個供應商負責單一零件,而沒有人負責整個產品的結果。Gradiant 整合了整個層級。我們將再利用與退廠功能納入一個整體性能系統,並且可以持續運作,直到整個廠房完工。.

 

一個合夥人,一個電話號碼,一個我們所承諾的結果。.

最高系統恢復率

我們將淡水供應量限制在一個網站可以運作的最低水平,同時將系統級的水循環利用率提高到超過 90%。水量更少,風險更低,且整個廠房的使用壽命期間成本更低。.

保持純潔的意志

我們即使面對水質的變化,也能保持超純淨的配料水,並從 PFAS 到阿唑類等污染物中去除其餘的殘留物。我們為目前運送的配料水和將來的配料水提供最高純度。.

任何樣式的模型,都可提供

設計與建造、設計與供應,或全資擁有與營運。全套工程或僅提供設備。我們根據每個工廠的資本規模量身打造我們的方案。.

全球
經過驗證

我們提供服務,無論是在建造場地何處。我們的全球團隊已完成美國、歐洲、印度、台灣、新加坡和日本各地晶片廠的安裝工作。.

一個端到端的解決方案,解決三個挑戰
在整個工場中.

半導體領導者之所以為我們所熟知,是因為他們能在晶片廠內實現高水再生利用。我們根據廠房的實際用水需求,將其降低到原本水量的百分之一以下,並在每個環節中回收並重新使用水資源。這項成果源自於三個相互連結的關鍵能力。.

超純水(UPW)

提供最先進的處理器的純度,即使水源發生變化,也能保持純度。憑藉 H+E 的傳統,該團隊建造了歐洲最大的芯片加工超純水廠。.

廢水處理與再利用 (WWT)

專注處理並回收現代化工廠所產生的多種不同流動性廢水,這些流動性廢水各有其獨特之化學成分與毒性;無論是單獨處理,亦或是結合處理,都能達到高回收率。這就是我們的核心專業領域。我們是專注處理廢水的專家,能將複雜的廢水轉化為可重複使用的水,並大規模運作。.

零液體排放(ZLD)

在流程結束時完成環路循環,將廢氣轉化為可重複使用的水和可回收的固体物質。在許多地區,這已成為獲得許可證的必要條件。.

建立在你所創造的奇蹟之上
承建、建造和營運

每個項目都有不同的交付模式。格拉迪安特會根據每個工廠的商業和執行結構,提供從交鑰匙到設備供應、再到營運的全方位服務。.

設計與建造

我們負責工程設計、安裝、試運轉和啟動。.

設計與供應

我們提供工程與技術,讓您的團隊能夠執行。.

自行建造、自行經營

我們將資金投入,交付設備,並按照合同規定的標準,每天不懈努力地運作水層。.

超純水

挑戰不僅在純度方面。在水源隨時間變化的情況下,保持純度也是一個挑戰。隨著晶片尺寸逐漸縮小,以單個水合離子為單位,耐受性要求則以每千億分之一為單位測量。格拉迪安無論使用何種水源,都能保持這項精準的標準,這對於穩定的高效生產而言至關重要。.

有選擇性
污染物
提取

SCE針對難以去除的特定污染物進行靶向處理,因此可以針對更廣泛的水源進行處理,以達到所需的冷卻水處理目標。.

治愈
化学品

定制化的化學方案可協助控制冷卻系統中的鈣化、腐蝕及生物汙染,以提升熱傳導與熱效率。.

S馬特哦PS

它能實時監控、預測並優化水系統運作,提升可靠性、縮短停機時間,並降低運作成本。.

廢水
治療與再利用

現代化的製程會產生許多不同的廢水流,每種流都有各自獨特的化學成分。我們將它們進行高回收率的處理,單獨或併用,並將清潔的水送回廠內。如PFAS和阿唑類等新興污染物會被移除並永久銷毀,並使用膜分離、微泡沫分餾和電氧化技術。.

半批次
逆轉
OSMOSIS

SBRO 是一種高回收率的反滲透膜處理技術,可幫助回收更多水,降低能源使用,並減少鹽水量,同時在變化的供水條件下保持可靠的性能。.

COUNTER
FLOW
逆轉
OSMOSIS

CFRO 可實現極高水回收率和鹽水濃縮,最大程度地減少液體排放,降低廢物量,並降低數據中心運營的處理成本。.

BIO INFINITY

使用高效率的生物處理技術,將 IPA、氨和 BOD 等生物降解性物質從廢水中清除,同時控制排放量。

零液體排放

在整個過程結束後,我們將剩餘的物料轉化為可重複使用的水和固体物質,因此該設施的排放量會盡可能地保持在最低水平。這也是該廠能夠遵守相關許可證和公共資金約束約束的排放量標準的原因。.

氣體萃取

Carrier Gas Extraction 利用熱蒸發技術將鹽水濃縮,回收水,並在數據中心運作過程中最大限度地減少液體排放和廢物。.

逆滲透法反向滲透

CFRO 可實現極高水回收率和鹽水濃縮,最大程度地減少液體排放,降低廢物量,並降低數據中心運營的處理成本。.

與最佳夥伴合作

業界最大規模的系統級水資源再利用率高達90%

交付了歐洲最大的芯片鑄造超純水設備

業界最高容量和最高回收率的實證案例

隨著晶片數量增長,零件純度也達到千分之一的程度

已在世界各主要芯片廠商中得到證實

早點解決水問題,就能更有把握地繼續前進。.

無論您是規劃新建設施,還是強化現有場地的運作,水層都是關鍵所在,決定的因素就在於時間表和確定性。與全球最複雜半導體製造商合作,了解他們在這一方面的經驗。.

常見問題

為什麼水對半導體製造至關重要?

先進的晶片廠必須使用大量超純水才能可靠運作。水會影響廠址選擇、許可證、公共資金、生產的穩定性以及長期運作成本。對於尖端晶片廠而言,水已成為生產的必要條件。.

格拉迪安特管理整個製程用水系統,從取水和超純水供應到廢水再利用和零液體排放,形成一個完整的一體化系統。工廠可以與一個負責系統級性能的單一負責夥伴合作。.

格拉迪安設計系統,可在整個工廠內回收、處理及再利用水,降低該工廠運作所需的淡水需求。我們的系統設計可實現超過 90% 的系統級水回收率,幫助工廠降低水風險、提升工廠抗災害能力,並降低生命週期成本。.

是的。格拉迪安特提供超純水系統,旨在在源水品質變化以及節點需求進一步提升的情況下保持規格要求。我們的系統經過精心設計,能夠在供水、操作和設備需求方面的不變性下,持續保持純度。.

是的。半導體設備廠生產的廢水流具有不同的化學成分。格拉迪安會針對這些流體進行個別處理或綜合處理,回收水以供再利用,並針對難以處理的污染物(例如 PFAS 和阿唑類化合物)提供解決方案。在必要時,格拉迪安亦可提供零液體排放的支援,以降低排放風險,並協助符合相關許可要求。.

與專家對話

您準備好探索我們的半導體解決方案了嗎?  

填寫此表,我們的專家將與您聯繫。

请填写表格下载白皮书

请填写表格下载白皮书

请填写表格下载白皮书