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水在半導體製造的關鍵作用|當今產業

日益嚴格的環境法規繼續推動對半導體工廠用水有效管理的需求。

 

水在半導體製造的關鍵作用
圖1. 零液排放廢水處理流程概述

作者:Prakash Govindan,Gradiant 營運長

 

如今,晶圓製造和半導體製造工廠(或稱「晶圓廠」)迫切需要永續的水管理。我們正在經歷全球範圍內的半導體短缺,而這些半導體是控制從汽車到智慧型手機再到電器等一切事物所必需的。隨著半導體短缺的持續存在,製造商面臨越來越大的壓力,要求他們在水務運營中採用可持續和高效的做法。水在晶片生產中發揮著至關重要的作用,因為在製造矽片時需要沖洗和清潔矽片,水不是普通的水,而是超純水(UPW),它的純度是飲用水的數千倍。生產 1,000 加侖超純水需要約 1,400 -1,600 加侖的市政用水,工廠每天的用水量高達 500 萬加侖。

 

在半導體需求空前的時期,主要半導體製造領域的嚴重乾旱正在威脅品牌所有者和代工廠的營運連續性和擴張計劃。半導體工廠所需的大量用水限制了當地家庭、企業和社區野生動物的可用水量。此外,在台灣和美國西部等晶圓廠所在地的主要地區,最近的乾旱困擾著這些地區,從而威脅到全球供應鏈,增加了生產成本,並對整體水資源供應造成壓力。

 

水在半導體製造的關鍵作用
圖 2. 分離廢物流以優化處理和再利用。全球水情報。

為了應對長期乾旱和對半導體不斷增長的需求,品牌所有者和製造商正在關注回收、減少和再利用生產中用水的新方法。水處理領域的新進展使半導體製造商能夠回收和再利用廢水、去除目標污染物,甚至從廢物流中回收有價值的產品。

 

由於易於實施,透過設備冷卻等簡單措施進行水回用繼續被廣泛採用,但工廠越來越有興趣處理和引導製程廢水的各個流,以作為超純水系統的給水。這種做法很複雜,因為每種廢水流都不同,有時需要自己的處理方法。當與其他水資源管理策略配合實施時,製造商可以大幅減少整體用水量,並確保其製造營運和供應鏈的可持續性和連續性。

 

來自世界領導人的壓力

隨著淡水資源的減少,全球領導人對水和廢水的品質和數量越來越嚴格。官員們最近宣布了實現可持續未來的雄心勃勃的目標,其中重點是解決對水的需求。在聯合國氣候變遷大會(即 COP26)上,水是討論的主要焦點。聯合國官員預測,到 2030 年,世界將出現 40% 水資源短缺,這促使來自世界重要產業的許多領先品牌所有者承諾,他們的營運將實現淨水積極成長。

 

除了品牌所有者之外,許多國家也在採取永續水管理措施。在大部分半導體製造基地所在的亞洲,新加坡今年宣布了《2030 年綠色計畫》,以最大限度地利用自然資源並減少排放到環境中的廢物量。隨著這些舉措和計劃的不斷發展以及與水和廢水管理相關的法規的頒布,品牌所有者和製造商面臨更大的壓力,需要透過可持續的水實踐來優化其運營並最大限度地減少足跡。

 

未來的擴張計劃

未來對半導體的需求只會成長,以滿足我們日常生活中對科技和電子設備永不滿足的需求。水處理領域的創新進步現在使各行業能夠回收和再利用廢水、去除污染物並從廢物流中回收有價值的產品。隨著大型晶片工廠在未來幾年準備擴建,先進的水和廢水處理將在滿足世界對半導體的需求方面發揮關鍵作用。

日益嚴格的環境法規繼續推動對半導體工廠用水有效管理的需求。

 

水在半導體製造的關鍵作用
圖1. 零液排放廢水處理流程概述

作者:Prakash Govindan,Gradiant 營運長

 

如今,晶圓製造和半導體製造工廠(或稱「晶圓廠」)迫切需要永續的水管理。我們正在經歷全球範圍內的半導體短缺,而這些半導體是控制從汽車到智慧型手機再到電器等一切事物所必需的。隨著半導體短缺的持續存在,製造商面臨越來越大的壓力,要求他們在水務運營中採用可持續和高效的做法。水在晶片生產中發揮著至關重要的作用,因為在製造矽片時需要沖洗和清潔矽片,水不是普通的水,而是超純水(UPW),它的純度是飲用水的數千倍。生產 1,000 加侖超純水需要約 1,400 -1,600 加侖的市政用水,工廠每天的用水量高達 500 萬加侖。

 

在半導體需求空前的時期,主要半導體製造領域的嚴重乾旱正在威脅品牌所有者和代工廠的營運連續性和擴張計劃。半導體工廠所需的大量用水限制了當地家庭、企業和社區野生動物的可用水量。此外,在台灣和美國西部等晶圓廠所在地的主要地區,最近的乾旱困擾著這些地區,從而威脅到全球供應鏈,增加了生產成本,並對整體水資源供應造成壓力。

 

水在半導體製造的關鍵作用
圖 2. 分離廢物流以優化處理和再利用。全球水情報。

為了應對長期乾旱和對半導體不斷增長的需求,品牌所有者和製造商正在關注回收、減少和再利用生產中用水的新方法。水處理領域的新進展使半導體製造商能夠回收和再利用廢水、去除目標污染物,甚至從廢物流中回收有價值的產品。

 

由於易於實施,透過設備冷卻等簡單措施進行水回用繼續被廣泛採用,但工廠越來越有興趣處理和引導製程廢水的各個流,以作為超純水系統的給水。這種做法很複雜,因為每種廢水流都不同,有時需要自己的處理方法。當與其他水資源管理策略配合實施時,製造商可以大幅減少整體用水量,並確保其製造營運和供應鏈的可持續性和連續性。

 

來自世界領導人的壓力

隨著淡水資源的減少,全球領導人對水和廢水的品質和數量越來越嚴格。官員們最近宣布了實現可持續未來的雄心勃勃的目標,其中重點是解決對水的需求。在聯合國氣候變遷大會(即 COP26)上,水是討論的主要焦點。聯合國官員預測,到 2030 年,世界將出現 40% 水資源短缺,這促使來自世界重要產業的許多領先品牌所有者承諾,他們的營運將實現淨水積極成長。

 

除了品牌所有者之外,許多國家也在採取永續水管理措施。在大部分半導體製造基地所在的亞洲,新加坡今年宣布了《2030 年綠色計畫》,以最大限度地利用自然資源並減少排放到環境中的廢物量。隨著這些舉措和計劃的不斷發展以及與水和廢水管理相關的法規的頒布,品牌所有者和製造商面臨更大的壓力,需要透過可持續的水實踐來優化其運營並最大限度地減少足跡。

 

未來的擴張計劃

未來對半導體的需求只會成長,以滿足我們日常生活中對科技和電子設備永不滿足的需求。水處理領域的創新進步現在使各行業能夠回收和再利用廢水、去除污染物並從廢物流中回收有價值的產品。隨著大型晶片工廠在未來幾年準備擴建,先進的水和廢水處理將在滿足世界對半導體的需求方面發揮關鍵作用。

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